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麦科威 高温高压光浮区单晶炉
2025-06-09 10:10  浏览:0
   日本CSC司推出的高温高压光学浮区法单晶炉能够提供2200℃以上的生长温度,晶体生长腔压力可达300bar,甚至10-5mbar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等。
  模型fz - t - 10000 h -八世(vpo)电脑
  卤素灯系统
  灯和镜子的数量4个
  镜子数量4片
  大气
  压力
  压力0.95 MPa
  真空6.7×10-3Pa (5×10-5 Torr)
  室
  (石英管)
  常压φ 50mm / 365 mm长/ 2mm厚
  高压φ 50mm / 365 mm长/ 5mm厚
  轴密封为o型密封圈
  Max。温度2200℃
  常温1850℃
  灯功率1200w (300W × 4个灯)
  4,000W (1,000W x 4盏灯)
  6,000W (1,500W × 4盏灯)
  镜台/轴镜台与上轴垂直转移
  周围温差
  杆面
  <30℃
  灯具冷却空气
  镜面冷却空气
  Max。晶体长度(mm) 150
  Max。进给长度(mm) 150
  生长罕见缓慢移动0.01~300mm/hr
  生长速度快移6~150mm/min
  轴转速5~100rpm
  监控CCD摄像头和LCD
  控制系统计算机LabVIEW / Windows 10(带远程控制功能)
  手动Hand-control-box
  ①5L/min氩气流量计(*1)
  ②500cc/min氧流量计
  ③10L/min带压缩机的空气流量计
  公用事业电力3相200V, 40A
  水冷:3 ~ 5 l / min
  尺寸(mm)主体W850×D760×H1950
  控制箱W605×D760×H1700
  备注:
  1. 可选灯功率:150W / 500W / 750W
  2. (*1)可更改其他类型的气体和流量。
  3. 质量保证:
  Crystal Systems Corporation保证自安装之日起一(1)年内有效,但以下情况除外
  不正常使用。(1)灯(2)镜子(3)石英管等玻璃器皿不在保修期内。
  更多详情请咨询:https://www.chem17.com/st640847/product_39196667.html
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